• F-MASK바로가기

    당사의 특허기술로 FMM공정 적용시
    수율향상에 도움이 됩니다.

    F-MASK
  • S-MASK바로가기

    당사의 특허기술로 Shadow area 감소를 통한 높은 수율을 보장합니다.

    S-MASK
  • H-MASK바로가기

    당사의 특허기술로 인장공정 위치편차에 의한 불량을 감소시켜수율향상을 기대할 수 있습니다.

    H-MASK
  • Curved Scanning바로가기

    이형type의 round 부분의 정밀한 측정을 통해 품질향상을 기대할 수 있습니다.

    Curved Scanning

공지사항

더보기

특허/인증

  • 온라인 문의

    문의 신청 시 빠른 피드백을 드립니다.

    바로가기
  • 오시는 길

    방문을 환영합니다.

    바로가기