■ S-MASK


당사의 특허기술인 Slight Etching 공법으로 Shadow area 를 감소시켜 증착시 높은 수율과 정밀도를 얻을 수 있는 제품입니다. Etching Depth 20㎛이하, Taper Angle 45º 가능

S-MASK